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产品介绍

广达材料有限公司 是个纳米材料公司以及制造

  • 氧化镓粉末
  • 氧化锡粉末
  • 氧化铟粉末

我们氧化纳米粉末是用高温蒸发法制造的,是比表面积大、分散性优秀的低凝聚纳米粉末,特性是产品的大小散布少、具有高结晶度还有高纯度。

原料粉末的质料通过烧结制造氧化物靶材时,会直接影响靶材的使用质量。我们的氧化纳米粉末是生产高品质氧化物溅射白菜的最佳原料,特别是烧结时也有很大的优点。

用气相法制造的产品可以帮助轻松确保高分散性烧结的氧化物靶材的形成均质性,高洁净型没有湿式法中偶尔可能发生的反应物,因此有助于烧结后确保可靠性的烧结密度。

另外,本氧化物粉末所具有的高分散性和高比表面积的反应性和响应性卓越,非常有利于使用与传感器、催化等功能性材料。高技术力的使用者通过建造设计,可使光功能不见,及氧化物半导体、光传感器等赋予材料内的均质性,利用本粉末的特性制造并提供可靠地光电子特性。

氧化镓粉末

为了制造高品质的IGZO靶材而设计的原料,可赋予均值的细微构造及高生产性。

应用 : IGZO靶材、催化剂、元件晶圆

以高温蒸发法制造的氧化纳米粉末,与现有湿式法相比,品质(低凝聚、超微细、高纯度), 成本(节约1/3以上), 生产效率(缩短工艺时间20%以上)方面具有企业的竞争力。

比表面积8~15 ㎡/g

粒子大小

粒子大小
D/10 D/50 D/90
Size(㎛) < 0.2 < 0.5 < 1.5

纯度

纯度
内容物
铝,砒,铋,钙, 钙,钴,铬, 铜,铁,钾,镁
锰,镍,磷,铅,锑,硅,锡,钛,钨,锌,锆
< 10ppm
总共 < 50ppm

特性

  • 低凝聚(气相合成法)
  • 高结晶度
  • 200㎚
  • 100㎚

氧化锡粉末

对ITO靶材最佳的原材料,不仅在拥有较高的分散性和比表面积的ITO靶材,也在其他方面可以灵活应用。

应用 : ITO靶材、催化剂、净化机

以高温蒸发法制造的氧化纳米粉末。以均质形态的大小和品质为基础,可应用于成本、生产性方面发生差别化的复合氧化物原料。

比表面积8~12 ㎡/g

粒子大小

粒子大小
D/10 D/50 D/90
Size(㎛) < 0.2 < 0.5 < 1.5

纯度

纯度
内容物
铝,砒,铋,钙, 钙,钴,铬, 铜,铁,钾,镁
锰,镍,磷,铅,锑,硅,锡,钛,钨,锌,锆
< 10ppm
总共 < 100ppm

特性

  • 低凝聚(气相合成法)
  • 小的粒子大小及窄分布
  • 200㎚
  • 100㎚

氧化铟粉末

因其具有优秀的分散性,凝聚体发生较少,与现有的产品差别化,减少靶材使用不良因素自已的结瘤发生率,对高密度用靶材进行烧结,实现适当的粒子形态和尺寸。

ITO靶材、IGZO靶材

以高温蒸发法制造的氧化物纳米粉末,具有分散性、较少的凝聚体和高结晶度。拥有生产高品质ITO靶材的优化的 氧化纳米粉末。

比表面积8~15 ㎡/g

粒子大小

粒子大小
D/10 D/50 D/90
Size(㎛) < 0.2 < 0.5 < 1.5

纯度

纯度
内容物
铝,砒,铋,钙, 钙,钴,铬, 铜,铁,钾,镁
锰,镍,磷,铅,锑,硅,锡,钛,钨,锌,锆
< 10ppm
总共 < 50ppm

特性

  • 低凝聚(气相合成法)
  • 高结晶度
  • 200㎚
  • 100㎚

工程

气相合成法

  • 高生产率最低成本
  • 高结晶性和低凝聚
  • 第一

    金属蒸发

  • 第二

    高温蒸发

  • 第三

    氧化生产工程